GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪
产品概述：
GSL-1700X-SPC-2是一款小型台式程序控温蒸发镀膜仪，可以设定程序，准确控制温度200ºC~1500ºC（或者1200ºC~1700ºC），样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。
结构&特点：
l 真空腔体为直径6英寸的石英腔体，便于清洁和放入样品
l 安装有一个2英寸的样品台，并且样品台可以旋转，使所制薄膜更加均匀
l 采用钨丝篮作为发热源，*高温度可达到1500℃，并且配用专用氧化铝舟，可装入样品
l 准确控温：可设置30段升降温程序，控温精度为+/-1℃
l 气体流量端口和阀门内置用于腔室净化和CVD可能性
基本参数：
l 温度：*高1500℃（1200℃以上＜1h）
l 建议升温速率：≤20℃/ min（需根据工艺调整）
l 热偶：B型或者S型热偶
l 电源：AC220V，50Hz
l *大：6KW
温控及加热源：
采用钨丝篮作为发热源，并且配有专用的氧化铝坩埚，热电偶安装在坩埚底部，以便于温度测量和控制
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采用S型热电偶（工作温度为200℃-1500℃）
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可选B型热电偶（工作温度为1200℃-1700℃）
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安装有一个数显的温度控制器：可设置30段升降温程序，控温精度为+/- 1ºC（如图2）
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温度控制器的时间设置以秒为单位，建议将升温/降温速率限制在1200ºC以下0.3ºC/s（20ºC/ min），在1200 - 1500ºC限制到0.15ºC/s（10ºC/min）
仪器中配有钨丝篮及氧化铝坩埚
样品台：
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仪器顶部安装有样品台，直径为Φ50mm，并设置有挡板，方便控制蒸发镀膜时间
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样品台可旋转，增加镀膜均匀性
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样品台和蒸发源之间的距离可以调节
进气口：
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进气接口为1/4NPS，可向真空腔体中通入惰性气体，对腔体进行清洗，也可通入反应气体，进行反应蒸发镀膜
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进气口安装有一针阀，用于调节进气流量
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程序控温型四坩埚蒸发镀膜仪-GSL-1700X-EV4
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仪器中配有钨丝篮及氧化铝坩埚，并用户可额外选购钨丝篮及氧化铝坩埚
真空计（可选）：可选购一数显防腐真空计，测量范围为：3.8x10-5-1125Torr
膜厚检测仪（可选）：
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可在本公司选购精密的石英振动薄膜测厚仪安装在溅射仪上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 Å
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LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据
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同时可选购反射光谱薄膜测厚仪--TFMS-LD
真空系统：
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设备上有一KF25接口用于连接真空泵
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采用涡旋分子泵真空可达1.0E-5Torr，极限真空度可达4.0E-6Torr
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双极旋片真空泵或干泵，可使仪器真空腔体的真空度达到10-2Torr
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真空度达到10-2torr时，可蒸发一些贵金属，参考材料金和铂，也可蒸发一些有机材料，可选购数显防腐真空计PCG-554(测量范围3.8x10-5 to 1125 Torr.)
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高真空度可达1.0E-5Torr（采用涡旋分子泵），此时可蒸发对氧敏感的材料，参考材料Al. Mg,
Li，分子泵上带有复合真空计
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（*高可测量真空度为1.0E-7Torr）
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可在本公司选购各种真空泵和真空计
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可选购一个冷真空阱，以避免真空泵造成污染
外形尺寸：490mm*330mm*560mm
质量认证：所有电器元件（>24V）都通过UL/MET/CSA/CE认证，若客户出认证费用，本公司保证单台设备通过德国TUV认证或CAS认证。
使用提示：
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为了获得高真空度，可采用以下做法
（1）使用前要检查密封圈和法兰上是否有异物或划痕，并用酒精擦洗
（2）抽真空时，用外部加热装置将腔体烘烤到200℃，氧化铝坩埚预加热到500℃，保持2小时
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此款蒸镀仪可以放入到手套箱里操作，用于蒸镀一些在常温下对氧气敏感的材料，比如金属Li等，可在本公司选购开启式手套箱VGB-6
使用注意事项：
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使用温度高于1300℃时，保温时间不可大于1小时，否则会损坏密封圈
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当腔体的各阀门关闭时，请勿开启升温程序或手动调节电流进行加热
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当仪器正在蒸发材料时，不可打开泄气阀或关闭真空泵，只有当加热温度降至100℃时，才可放气或关闭真空泵
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蒸镀电流不宜大于40A
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如误将控温仪表设为手动状态，程序将不能正常运行
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此设备仪表程序为秒，200℃之前升温速度不宜大于0.5℃/S
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如果用户选购了STC-2型薄膜测厚仪，在选用取样片时请按：镀纯金属时用金取样片，镀合金时用银取样片
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钨丝篮必须在真空状态下（＜5Pa才能通电加热，否则会被氧化）
